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Plessey從半導體行業沉積設備供應商AIXTRON SE訂購了MOCVD反應器

作者:51Touch時間:2018-09-27 來源:華強電子網

[摘要]AIXTRON SE 是半導體行業沉積設備的全球領先供應商。AIX G5+ C 金屬有機化學氣相沉積 (MOCVD) 反應器將提升 Plessey 在硅 (GaN-on-Si) 晶圓上制造氮化鎵的能力,其目標是應用于下一代microLED。

    北京時間09月27日消息,中國觸摸屏網訊,Plessey為GaN-on-Silicon單片microLED顯示器創新選擇了AIX G5+ C MOCVD工具。Plessey 是屢獲殊榮的光電子技術解決方案的領先開發商,宣布已從 AIXTRON SE (FSE: AIXA) 訂購了下一個反應器,AIXTRON SE 是半導體行業沉積設備的全球領先供應商。AIX G5+ C 金屬有機化學氣相沉積 (MOCVD) 反應器將提升 Plessey 在硅 (GaN-on-Si) 晶圓上制造氮化鎵的能力,其目標是應用于下一代microLED。

    本文來自:http://www.zc28898.cn/fixture/news/2018/0927/51569.html


 

  憑借自動盒式到盒式 (C2C) 晶圓傳輸模塊,新的 AIXTRON 反應器將于 2019 年第 1 季度在位于英國普利茅斯的 270,000 平方英尺的 Plessey 制造工廠安裝并運行。AIX G5+ C MOCVD 系統具有兩個獨立的腔室設置選項,可以在封閉的盒式環境下從系統自動裝載并移除 8 x 6in 或 5 x 8in GaN-on-Si 晶圓配置。該系統將成為該公司現有金屬有機化學氣相沉積 (MOCVD) 反應器的補充,該反應器也由 AIXTRON 供應,可提供 7 x 6in 或 3 x 8in 的人工裝載配置。

  新反應器的自動化自清潔技術進一步提高了生產率,通過確保每次運行時反應器清潔,有助于提供極低水平的晶圓缺陷。這顯著減少了維護的停機時間,需要在配方運行期間和之間與其他反應器一起定期清除殘留物。新設備還提供更快的斜坡和冷卻以及高的基座卸載溫度,以減少配方時間。

  AIX G5+ C 反應器將支持 Plessey 廣泛的生產路線圖,以根據其專有GaN-on-Si 技術提高單片microLED的研發能力。Plessey 的microLED具有極低的功耗、高亮度和極高的像素密度,可在使用傳統顯示技術(如 LCD 和 OLED)的多個現有應用領域中造成潛在破壞。

  Plessey 的使命是成為世界領先的公司,開發用于顯示引擎和全場發射microLED顯示器的創新照明。這些復雜設備將高密度 RGB 像素陣列與高性能 CMOS 背板相結合,為頭戴式顯示器和可穿戴電子設備提供高亮度、低功耗和高幀率的圖像源,用于增強現實和虛擬現實系統。

  AIXTRON 歐洲副總裁 Frank Schulte 博士說:“我們相信 AIX G5+ C將以最佳方式支持 Plessey 的要求,以滿足最嚴格的microLED生產要求。該工具提供更高效的配置,同時滿足硅行業在均勻性和顆粒方面最嚴格的要求。”

  Plessey 首席運營官 Mike Snaith解釋說:“我們與 AIXTRON 持續和寶貴的合作關系使 Plessey 能夠迅速將其單片microLED推向市場。為了幫助我們實現這一目標,我們最新收購的 AIX G5+ C 行星系統以最低的擁有成本將出色的晶圓均勻性和運行性能相結合 - 這對于高效大容量GaN-on-silicon microLED顯示器至關重要。”

  為解決制造microLED所涉及的各種挑戰,包括大容量和具有成本效益的生產能力,Plessey 積極與潛在客戶合作,以使用其尖端的生產就緒型microLED技術平臺。
 

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