北京時間03月15日消息，中國觸摸屏網訊， 中國有許多俗語或古人的講話教導我們凡事須從長處著想。例如人無遠慮，必有近憂、凡事預則立，不預則廢、未雨綢繆等等。在筆者看來，今天服務于觸摸屏制造的網版印刷技術就很有必要從長處著想。所謂從長處著想，就是今天的網版印刷工藝是否能夠滿足“明天”或“后天”的觸摸屏制造技術的要求？目前所能看到的或可預見到的“明天”或“后天”的網版印刷技術在觸摸屏制造技術中有哪些不適或者會遭遇到什么樣的危機和挑戰？總之，就是今天的網版印刷技術在“明天”或“后天”的觸摸屏制造技術中是否有“下崗”的可能并且會被其他的制造技術所取代。

    本文來自：http://www.zc28898.cn/fixture/news/2012/0315/14514.html

    問題是在許多人還沒有想好網版印刷技術應該怎么辦的時候，有其他制造技術卻早早做好了意欲取而代之的準備，所以筆者上所說的“危機”絕非是“紙老虎”。

    前進路上的“攔路虎”

    在觸摸屏的技術研討會，會上一位化學博士就介紹了他們的公司為明日觸摸屏技術準備的“厚禮”—光刻膠/觸摸屏制造技術，這種光刻膠/ 觸摸屏技術可以滿足制造出1 μ m 以上，30 μ m 以下的超高精細電子導線（圖形），也就是說他們生產的光刻膠的最高解像力為 1 μ m，它可以順利地完成寬度為1 μ m 的超高精細電子導線（圖形）的制造。然而，這種光刻膠工藝不是網版印刷型的，而是采取旋涂或滾涂制造技術�！颈�1】為該光刻膠性能簡介，可供后述網版印刷型之光刻膠與之進行比較。該博士還說，為實現市場之不同需要，他們試制并供應市場不同解像力之光刻膠，例如用于生物傳感器的光刻膠， 解像力5 μ m；還有用于LED 的光刻膠，其解像力為30 μ m 以下。

表1 非網印型光刻膠性能簡介
 

    另一個有能力制作超高精細圖形的技術是薄膜技術，它是網版印刷技術在觸摸屏及電子制造領域最為強勁的對手。目前，薄膜技術具有制造90 nm(0.09 μ m)柵條（寬度）的能力，根據國際法導體技術路線圖（ITRS），在2016 年薄膜技術將達到 22 nm（0.022 μ m），電子導線（圖形）的制造水平（在半導體器件制造領域一個更為專業的標志就是柵條寬度）�？陀^地講，薄膜技術在超高精細制造領域特別是柵條寬度（電子導線寬度）為1 μ m 以下的制造技術中，薄膜技術具有絕對的優勢，而在這一制造范圍內，網版印刷技術是無法與之抗衡的。

    網版印刷技術今日現狀

    今天的網版印刷技術是將成功制造2.5 μ m 以上的超高精細柵條（電子導線）作為奮斗目標的，把制造2.5 μ m 以上超高精細柵條定義為網版印刷技術在觸摸屏及其他電子制造領域的“專屬領地”，這一點是必須要去捍衛且不容置疑的！下面還是讓我們去看一看那些創新的網版印刷人是如何努力的。

    （1）光刻膠/ITO 玻璃

    在觸摸屏制造技術中，需要制作超高精細網版。例如500目不銹鋼絲網、絲徑18 μ m、絲網厚度25 μ m；網版張力24 N/cm、張力精度要求±1 N/cm（9點）或± 0.5 N/cm（9 點）；網版膜厚8 μ m 、膜厚精度要求± 1 μ m（9 點）用于將光刻膠（抗蝕刻UV耐酸油墨）印刷在ITO 玻璃上。所以讓我們先按順序去了解一下ITO 玻璃和網版印刷型光刻膠。

    ① ITO 玻璃

    在了解ITO玻璃之前，我們先簡單地解釋一下何謂導電玻璃？在玻璃的一個表面鍍有透明導電膜的玻璃稱為導電玻璃，導電玻璃除了應用于液晶顯示器外，還用于其他平板顯示器件的制造。

    什么是ITO 玻璃？在基板為納鈣玻璃、硼硅玻璃等玻璃表面鍍有一層氧化銦（In2O3，三氧化二銦）和氧化錫（SnO2，二氧化錫）透明導電膜的玻璃稱為ITO 玻璃。ITO 膜（氧化銦和氧化錫膜）是具有最佳導電性的透明導電材料，ITO 膜具有實用的化學穩定性和熱穩定性，而且電極圖形加工性良好，所以ITO 玻璃也可稱之為ITO 導電玻璃。

    ②網版印刷型光刻膠

    網版印刷型光刻膠簡稱光刻膠，亦稱光阻液、光致抗蝕刻耐酸油墨等。光刻膠一般由感光劑、增感劑和溶劑組成。感光劑是一種對光敏感的高分子化合物，當它受到適當波長的光照射時能吸收一定波長的光能量，使之發生交聯、聚合或分解等光化學反應，使光刻膠改變性能。

    光刻膠是光刻工藝中最為重要的抗蝕刻材料。光刻膠種類很多，目前光刻膠品種有很多種。根據光刻膠曝光前后溶解特性的變化，可將光刻膠分為正性膠和負性膠兩大類（時下的網版印刷型光刻膠多為負性膠）。表2為正性光刻膠與負性光刻膠性能比較。

表2 正性光刻膠與負性光刻膠性能比較
 

    在高精細或超高精細觸摸屏、光刻膠、網版印刷制造工藝中，首先是制作高精細或超高精細網版，對這種網版除了要求感光膠具有極高的解像力之外同時還要求感光膠具有高耐極性溶劑（氟酸、磷酸等）的能力以及與不銹鋼絲網具有極佳的黏合能力；這種含氟素高機能性感光膠對于網版印刷時所印刷的光刻膠（光致抗蝕刻耐酸油墨）有極優良的耐性。在網版制好后，將沿著如下的工藝路線進行。

    （2）光刻膠/ 網版印刷工藝路線

    ① ITO 玻璃準備

    ITO 玻璃表面處理一定不可等閑視之，在清潔干凈并干燥后備用，注意用于清潔的水及此后各工序用水都必須是高純水（蒸餾水或去離子水）。

    ②網版印刷光刻膠

    在ITO 玻璃上滿版印刷光刻膠。網版印刷環境應該是在萬級或千級潔凈室內工作，溫度是（2 2 ± 2 ）℃，濕度是5 5 % ～60% RH，同時應該在不含紫外光成分的黃色安全燈條件下進行操作。

    ③軟烘熔

    通過適度濕度加熱，使光刻膠中的溶劑蒸發并使光刻膠膠膜干燥。

    ④對準和曝光

    高精細及超高精細掩膜版（亦稱光罩、膜罩）是保證ITO 膜上光刻膠圖形質量（精細程度）的關鍵。

    曝光就是在涂覆好了光刻膠（膠膜已干燥）的ITO 玻璃表面覆蓋掩膜版，置于抽真空曝光機內，通過紫外光進行選擇性照射，使受光照的光刻膠發生化學反應，改變了這部分膠膜在顯影液中的溶解度。顯影后，光刻膠膜顯現出與掩摸版相對應的圖形。曝光時須正確選擇曝光時間、曝光距離、曝光強度。

    ⑤顯影

    去除非聚合的光刻膠。

    ⑥硬烘焙

    對溶劑繼續蒸發且使顯影后的光刻膠膠膜硬化（干燥）。

    ⑦顯影檢查

    檢查顯影后的光刻圖形，圖形應該對準和無缺陷。

    ⑧刻蝕

   ITO 層上的光刻膠具有極優良的耐酸性能，對鹽酸、硝酸等刻蝕劑有良好的耐性�？涛g應在刻蝕機中進行，刻蝕液通過有一定壓力的噴嘴均勻地噴灑在ITO層上，完成刻蝕的任務。

    ⑨剝除光刻膠

    在3% 的NaOH （氫氧化鈉）水溶液中剝除光刻膠，剝除液溫度為40 ℃，（10～30） s或20 ℃，（20～80）s。

    ⑩最終檢查

    觸摸屏/光刻膠/網版印刷工藝至此暫告一段落，若檢查合格后可繼續進行其余工序。簡單的觸摸屏/光刻膠/網版印刷工藝可歸納如下。ITO 膜（Glass 或Film）超高精細不銹鋼絲網版→網版印刷光刻膠→干燥→ U V 曝光→顯影→干燥→蝕刻→剝膜（去除光刻膠）→檢查→繼續余下工序。據相關資料報道，如今已投入市場銷售的網版印刷型光刻膠的解像力是30 μ m，同時也有解像力為20 μ m 的光刻膠處試驗階段。

    （3）觸摸屏/ 金屬或非金屬網版/ 網版印刷

    以電鑄的方法形成的電鑄金屬鎳網版（金屬網版）或以激光切割的聚酰亞胺網版（非金屬或稱高聚物網版）進行電子領域里的網版印刷，其印刷的精細度是令人吃驚的，目前有著普遍成功的例子是網版印刷電子導線的寬度為5 μ m，甚至可以完成比5 μm 稍細窄例如線徑為2.5 μ m 的電子導線的印刷作業。尤其上述網版的孔壁的粗糙度（Rz）值居然可以達到0.1 μ m，這種網版對于網版印刷印料有著極佳的釋放效果，就整體工藝的流暢性而言，效果是非常好的。

    當前，還有一種對金屬網版進行處理的技術即網版納米涂層技術，這種所謂納米涂層網版專門用于微型部件及組件的網版印刷作業，這種納米涂層網版能使網版的襯箔增加了永久性的疏水涂層，能夠減少網版的清洗頻率并使工藝生產流程更順暢且返工量更少，帶來更高收益和生產能力的顯著改善。

    包括上述金屬或非金屬網版角度納米涂層金屬網版的超高精細網版印刷技術，在觸摸屏或其他電子制造領域（淀積）2.5 μm以及以上的細窄電子導線（例如30 μ m、10 μ m 等）與薄膜技術相比較，依然具有極其優越的競爭優勢，這些優勢集中表現如下幾個方面：
①能夠進行流暢的大工業生產；
②簡單的工藝制程；
③低能耗；
④較低的設備及工作場地、設施的投資；
⑤較低的制造成本；
⑥較高的綜合性價比。
⑦不銹鋼絲網網版的夢想。

    正因為包括觸摸屏在內的電子制造領域在淀積超高精細電子導線上有著更高要求的趨勢，所以網版印刷技術需要努力創新并進行必要的技術儲備，以應對5~8年之后超高精細的電子制造領域之需。

    以高目數不銹鋼絲網作為網版的載體且在不銹鋼絲網上涂覆高解像力之絲網感光膠，在中國網印界至少有1 0 余年以上的歷史，目前所能做到的網版精細水平（解像力）是8 0 μ m 或者100 μ m。由于不銹鋼絲網版還有著制造更加精細網版的潛力，且從綜合性價比進行比較，不銹鋼絲網超高精細網版印刷較之其他制造技術仍然具有極大的優勢，所以在未來的超高精細觸摸屏或其他電子制造領域中，超高精細不銹鋼絲網版的前景應該是非常美好的。

    近年來，國內有不少網版印刷創新人，熱衷于超高精細不銹鋼絲網版的創且將網版解像力的目標指向30 μ m 和20 μ m，這些網版印刷創新人為中國網印事業的進步默默耕耘、勇于進取的精神尤其令筆者感動和敬佩！有時面對這些朋友時，筆者總會在心中默默地說：我們只要再努力一把就有能力在 2.5 μ m 以上超高精細制造領域與他人競爭的時候，我們為什么不去努力一把而心甘情愿地將這塊“寶藏”、“富礦”之地拱手讓給他人？對于有骨氣的網版印刷人而言，這是恥辱，當然不是我們應取之態度。

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