北京時間04月09日消息，中國觸摸屏網訊，隨著半導體及光電制程對于品質精進的要求，制程環境的偵測與控制也隨之延伸進化，當制程演進到奈米等級，空氣中原本被忽略的微小氣狀分子污染物(Airborne Molecular Contamination；AMC)，開始對制程良率及產品可靠度產生了影響。

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    依據Kinkead等人的研究結果估計，這些氣狀分子污染物，因為量產而產生造成的延遲損失，每天高達250萬美元；因此如何防治AMC污染，已經成為產業界面臨之重大問題。

    對于空氣中所含何種微污染物并如何控制及監看，成為愈來愈多先進制程所關注的焦點。以往為了制程環境的空氣所含的微污染物，需耗用資源建置實驗室，雇用分析人力并采購大量分析儀器，如氣相層析質譜儀GC-MS、離子層析儀(Ion Chromatography)等。

    致力于潔凈空氣先進技術開發的奇鼎科技，為生產制程環境控制考慮各種面向，2015年也首度在SEMICON China展出，獲得一線大廠認同與肯定。

    以人工采樣制程空氣并使用實驗室儀器分析，從人工采樣、儀器校正、儀器分析到最終產出一份制程環境報告，中間需要花費大量的時間及人力，以傳統實驗室分析作為品質控制的資料回朔，在高階制程中已經難以趕上分秒必爭的產品產出率。

    自2010年起，奇鼎科技與臺灣晶圓代工大廠成為品質控管的合作夥伴，為先進制程所推出的“線上氣相微污染物連續偵測系統”(In-line nano-contamination inspection)系列產品；整合分析儀器及連續多點采樣模式，提供一個制程環境全面微污染物自動化監控的方法，大幅減少了實驗室建置、人力、儀器分析所需耗費的成本，可以立即反應每一段制程環境的變化。

    為了追求全自動、更快速、更全面、更精準的微污染物連續線上偵測，2015年奇鼎科技推出新一代的偵測系統“IAE-1000”。精進前處理過程，較前代機種分析速度快10倍。能有效即時反應制程環境產生的微污染物生成及趨勢變化。

    采集點位(ports)更由前代設計16個采樣點位，精進為可采樣超過40點的廣泛觀測，使高階制程廠區的監控更為全面。以獨家專利，突破了遠端空氣即時取樣回收率不良的瓶頸，讓遠端微污染物的分析判讀等同于在現場直接進行分析。

    采用整合分析儀器，改良前代機種偵測單一類型有機物分子(VOC)，新一代IAE-1000可同時觀察酸(MA)、鹼(MB)、凝結物質(MC)等物種，更全面的監控所有可能會產生危害的氣體分子微污染物。結合快速分析、多點遠端連續偵測、廣泛的觀察物種而成的強大品質資料庫，提供先進制程環境的全面監控系統。

    有關高階制程品質控管方案，如奇鼎科技的“線上氣相微污染物連續偵測系統”IAE系列及AMC去除控制整合節能方案，這類型氣相微污物監測及控制產品皆在2015年SEMICON China半導體展覽上海展出時，獲得大陸一線晶圓代工廠及面板廠的認同，解開制程空氣與產品質量關聯性的未知領域，將成為先進制程在品質精進上的重要議題。